酸性镀铜添加剂工艺上分为抑制剂A、加速剂B、开缸剂C。我们可以从位置、大小、阴阳属性三个角度重新将A、B、C分类，便于快速准确定位工艺故障和迅速排除故障。

　　一、位置：

　　按照三种添加剂主要吸附赫氏槽试片或镀件高低电位的特征可分为，抑制剂A高电位优先吸附，且称“高位剂”;加速剂B易于吸附作用于过电位较小的深位、低洼，且称“低位剂”;开缸剂C高低位均匀吸附，且称为“中位剂”。开缸剂C中含有20%左右的加速剂B，比抑制剂A抑制性更强的强走位剂及大量表面活性剂。只有其中的B剂显示位置极性。故，我们可以得到添加剂的极性位置均衡式：

　　位置均衡：A≈B+C

　　二、大小：

　　按照三种添加剂分子大小特征可分为高分子，大分子，小分子三种，高分子一般是大分子的几百到几万倍，大分子是小分子的几十倍。开缸剂C主要组分是高分子，抑制剂A主要组分是大分子，加速剂B主要组分是小分子。故，我们可以得到添加剂的分子大小搭配均衡式：

　　大小均衡：C≈A+B

　　三、阴阳属性：

　　按照三种添加剂对阴极反应速度即阴极极化度的贡献特征可分为阳性，阴性两种，能够加速阴极反应降低阴极极化度的称为“阳性剂”，能够抑制阴极反应速度提高阴极极化度的称为“阴性性剂”，抑制剂A和开缸剂C均属阴性，加速剂B则属阳性。故，我们可以得到添加剂分子阴阳搭配的阴阳均衡式：

　　阴阳均衡：B≈A+C.

　　酸性镀铜抑制剂A、加速剂B和开缸剂C三种添加剂在镀液中必须同时满足位置均衡、大小均衡和阴阳均衡，才是正在意义上的均衡，且称“完全均衡”或“三度均衡”，只有三度均衡，才能将添加剂的作用发挥到极致。

　　我们以位置、大小、阴阳属性三维坐标来定位高速镀铜添加剂的搭配情况，借助于10分钟、0.25A的赫氏槽试片，就能准确定位抑制剂A、加速剂B和开缸剂C三种添加剂的多寡，比如镜面填平宽度太窄，低位很容易发黑，那一定是大小失衡，开缸剂C>>A+B,应逐步提高A、B剂对开缸剂C的比例。